第97章 097.反向制裁？！

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最新型euv光刻机！?

性能得到大幅度提升的光刻机！?

说实话，这句话对于很多人的冲击，绝对要比反向制裁更大。

从公开信息中不难查出，红星机械厂现在出售的euv光刻机，性能与y斯麦公司的euv光刻机，并无任何差距。

也就是说，红星机械厂现在正在出售的euv光刻机，就是世界上最先进的光刻机。

然后。

在这种情况下。

丁修竟然说，他们公司已经拥有了更先进的光刻机。

那岂不是说，y斯麦公司的euv光刻机，已经落后了红星机械厂一代！?

在其他行业，或许这一代的差距，并不算什么。可在光刻机行业，却是无法逾越的鸿沟！

英寺尔公司的创始人之一摩尔·戈登曾说集成电路可以容纳的晶体管数目，每经过18个月，就会增加一倍’。

换而言之，他的意思就是说，计算机（电脑、手机、平板、服务器......)处理器每隔两年，性能就会翻一倍。

从这里不难看出，芯片迭代速度之快。18个月，就会完成一次升级。

这，就是半导体行业著名的摩尔定律。

然而。

大概在一个月前。

一些业内知名人士，却纷纷宣称，摩尔定律或将被打破，人类已经进入后摩尔时代。

之所以出现这一观点。原因就出在这光刻机上。事情还要从半年前说起。

几个世界顶级的芯片设计企业，几乎在同一时间将3纳米\/2纳米芯片设计出来。

在确定设计无误后，便前往同样是世界顶级芯片代工厂的三鑫和太基电，企图借助他们的力量，将其生产出来。

原本一个个兴冲冲的等待着，幻想着自己成为第一个。

可，到了光刻这一步，却出了大问题。

y斯麦的光刻机，理论上能够实现这一级别的芯片生产。

可真正生产的时候，却三番两次的出现问题。

眼见18月之期即将到来，太基电他们无法将其生产出来，设计方只能找来大量知名人士，想要借助他们的力量，将问题解决。

可经过一番激烈的讨论之后，结果却是，光刻机的套刻精度不够。

也就是说，想要生产出3纳米级的芯片，就必须要将euv光刻机升级。

光刻机技术哪家强？

西欧风车y斯麦。

这种事情根本就没得选，那个时候，全世界只有y斯麦可以生产eu310v光刻机。

花费巨资。

结果却是非常失望。

y斯麦的最强光刻机，也无法将3纳米芯片真正生产出来。

想要达到要求，他们还需要很长时间，将自己公司的技术，实现再一次的升级。

于是乎。

就有了后摩尔时代这个名词

若是光刻机无法升级，那么，他们就永远得不到3纳米芯片。

18个月的限制，直接被标记上了不可能’三个大字。然而。

这才不过区区一个月。

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